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CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉積技術(shù)工藝原理

       真空化學氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱：真空氣相鍍膜，納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構(gòu)成薄膜元素的長鏈性高分子材料（派瑞林Parylene等）、單質(zhì)氣體經(jīng)過昇華、熱解後進入放置產(chǎn)品的真空反應室，借助空間氣相化學反應並在產(chǎn)品表面上沉積生成的0.1-100um薄膜塗層的工藝技術(shù)。薄膜塗層厚度均勻，緻密無針孔、透明無應力、不含助劑、不損傷產(chǎn)品、有優(yōu)異的電絕緣性和防護性，是當代最有效的防潮、防黴、防腐、防鹽霧塗層材料。     

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CVD派瑞林真空氣相鍍膜流程

隨著時代的發(fā)展，電子產(chǎn)品技術(shù)的不斷革新。高新技術(shù)與智能化的發(fā)展，精密的電子設備元件需要適應各種惡劣的工作環(huán)境，達到工業(yè)對其更高的要求：高可靠，小型化，抗干擾等等。因此，電子零部件的環(huán)境適應性和防護力就成了重中之重。

LPMS為適應現(xiàn)有市場需求, 通過開發(fā)創(chuàng)新，成功的將派瑞林鍍膜技術(shù)運用到電子產(chǎn)品行業(yè)。我們在材料、工藝和設備方面的專有技術(shù)使我們能夠為客戶帶來高質(zhì)量的超薄與納米級保形塗層，其成就在行業(yè)得到認可。

CVD真空氣相沉積工藝特點
             

  • 生物相容性(用於各種植入物和其他醫(yī)療器械)，符合FDA（ClassVI）. 符合美軍標MIL I-46058C。


  • 納米塗層滲透力強，360度無死角，可滲入SMD器件底部，全方位覆蓋PCB和電子元件器，塗層完整、連續(xù)、無針孔、厚度均勻。


  • 具有高介電強度和低介電常數(shù)，超薄的絕緣層，能耐高電壓。 


  • 室溫下生成納米鍍膜層，對塗覆敏感部件沒有熱應力。 


  • 疏水薄膜，表面能量低，良好的幹膜潤滑性。 

             

  • 高度共形 - 可在尖角上覆膜並穿透小毛孔，不會形成彎月面，也不會聚集或遮擋精細的圖形。


  • 塗層化學惰性（無反應性），具有很高的耐化學性（酸堿鹽，溶劑）及極端的耐高低溫性（-60°C至200°C）

 

  • 透氣性非常低，不含針孔，防潮防水性（可達IP68)。


  • 抗輻射，可用於航空航太及γ射線和電子束滅菌。 

 

  • 光學透明，無色?？捎渺渡瞎鈱W元件和照明無件。

塗層可以承受極端高低溫
-60℃ 0℃ 60℃ 120℃ 180℃
-60～200℃
塗層可以承受極端高低溫（-60°C至200°C）
CVD真空氣相沉積與三防漆工藝對比

CVD（派瑞林 paerylene真空鍍膜）真空氣相沉積工藝鍍膜後產(chǎn)品表面化學純度高，鍍膜均勻，無小孔，無氣泡，不會脫落，無熱應力。

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我們能為您做什麼？

針對客戶具體專案，進行專案評估、提供專業(yè)可行的CVD（派瑞林 paerylene真空鍍膜 )真空氣相沉積工藝解決方案，以及納米塗層加工服務(打樣測試或大批量加工生產(chǎn))。

根據(jù)客戶技術(shù)要求提供CVD（派瑞林 paerylene真空鍍膜 )真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體，並給於專業(yè)的技術(shù)指導；

為有需要的客戶提供有針對性設計的CVD（派瑞林 paerylene真空鍍膜 )真空氣相沉積工藝設備（真空氣相沉積鍍膜機、真空脫氣爐等相關設備）。

CVD真空氣相沉積工藝應用

       CVD（派瑞林Parylene真空鍍膜）廣泛用於航空航天、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領域。派瑞林真空鍍膜後的電子產(chǎn)品具有極高的絕緣強度和耐高低溫(-60至200度)、抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、防銹、透明、防水(最高可達IP68)、抗老化、生物相容性等作用。

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CVD真空氣相設備
我們專業(yè)設計、製造和銷售各種類型和規(guī)格的CVD真空鍍模設備，如真空氣相沉積塗層機(派瑞林鍍膜機)、真空脫氣爐等。
CVD真空氣相沉積產(chǎn)品代加工

     LPMS擁用標準的真空氣相鍍膜車間和10多臺CVD真空氣相鍍膜設備，可為客戶提供CVD真空氣相沉積納米級塗層的打樣測試或大批量生產(chǎn)代加工服務。同時也可提供包括產(chǎn)品的從SMT表面黏著、DIP插件、無鉛制程、焊接加工、低壓注塑/點膠、真空氣相鍍膜、產(chǎn)品測試、成品包裝的全程代工代料服務，亦也可為客戶提供新產(chǎn)品開發(fā)服務。

真空氣相沉積材料

       CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名：派瑞林、聚對二甲苯、英文名：Parylene)，它可在真空下氣相沉積，活性分子的良好穿透力能在元件內(nèi)部、底部，周圍形成無針孔，並厚度均勻的透明絕緣塗層，給元件提供了一個完整的優(yōu)質(zhì)防護塗層，抵禦酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件的侵害，因為所使用的不是液體，所以塗敷過程中不會聚集，橋接式形成彎月面。

      Parylene派瑞林高分子材料根據(jù)分子結(jié)構(gòu)可分為： N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據(jù)客戶技術(shù)要求與產(chǎn)品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體與原料，並給於專業(yè)的技術(shù)指導。

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派瑞林牌號

成膜特性

CAT

N粉

CAT

C粉

CAT

D粉

CAT

F(VT4)粉

CAT

AF4(HT)粉

密度（gm/cc)

1.1

1.3

1.41

1.55

1.5

介電常數(shù)（1Mhz)

2.6

2.9

2.8

2.3

2.2

介電強度（V/Mil)

7000

5600

5500

5000

7000

最低持續(xù)工作溫度(空氣中）

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

最高持續(xù)工作溫度(空氣中）

60°C

80°C

110°C

200°C

300°C

摩擦係數(shù)-動態(tài)

0.25

0.29

0.38

0.39

0.16

線性膨脹係數(shù)(ppm at 25°C)

69

35

38

45

34

吸水性（24H後）

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)

0.6

0.08-0.1

0.1

0.25-0.32

0.2

氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

16

3

12.0-13.5

16.8

25.3

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